TP Micro Electromechanical Systems (MEMS) - Salle blanche

Microélectronique ; photolithographie.



 

Thématiques

  • Technologies de fabrication en salle blanche / Caractérisation et applications des dispositifs MEMS
 

Objectifs

  • Donner une introduction de l’environnement de salle blanche
  • Suivre le procédé de fabrication de transistors MOS et de membranes équipées de jauges d’exténsométrie, 
  • Préparer des dispositifs qui seront testés sous pointe dans les TP de caractérisation
 

Déroulé

  • Photolithographie
  • Gravure RIE
  • Dopage par implantation ionique
  • Nettoyage
  • Recuits d’implantation et procédés thermiques
  • Dépôt aluminium par pulvérisation cathodique
  • Gravure humide de l’aluminium
  • Photolithographie en face arrière
  • Gravure profonde DRIE
 

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Elèves concernés : 2e et 3e années de la filière internationale Nanotech