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Diversité scientifique et technologique
L'école d'ingénieurs de physique, électronique, matériaux
Diversité scientifique et technologique

> Formation

5PMNPHO1 : Photolithographie - WPMNDPH9

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  • Volumes horaires

    • CM : 5.0
    • TD : 5.0
    • TP : ?
    • Projet : ?
    • Stage : ?
    Crédits ECTS : 1.0

Objectifs

L'objectif de ce cours est de donner un aperçu des techniques de lithographie avancées, tels qu'elles sont utilisées dans l'industrie aujourd'hui, tels qu'elles le seront peut être demain.

Contact Irina IONICA

Contenu

  • Introduction à la lithographie (définitions, objectifs, classifications, enjeux)
  • Lithographie optique (étapes, systèmes d'exposition et d'alignement, optique pour la lithographie, techniques d'amélioration de la résolution, lithographie en immersion, lithographie extreme-UV…)
  • Introduction aux nouvelles techniques de lithographie (e-beam, nano-imprint)


Prérequis

quelques notions de technologie microélectronique

Contrôles des connaissances

DS, 1 heure



Informations complémentaires

Cursus ingénieur->Masters->Semestre 9
Cursus ingénieur->Master PHYSIQUE PhSem->Semestre 9
Cursus ingénieur->IPhy->Semestre 9
Cursus ingénieur->Double-Diplômes Ingénieur/Master->Semestre 9

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mise à jour le 18 mars 2019

Grenoble INP Institut d'ingénierie Univ. Grenoble Alpes