Volumes horaires
- CM 5.0
- Projet 0
- TD 5.0
- Stage 0
- TP 0
Crédits ECTS
Crédits ECTS 1.0
Objectif(s)
L'objectif de ce cours est de donner un aperçu des techniques de lithographie avancées, tels qu'elles sont utilisées dans l'industrie aujourd'hui, tels qu'elles le seront peut être demain.
Contact Irina IONICAContenu(s)
- Introduction à la lithographie (définitions, objectifs, classifications, enjeux)
- Lithographie optique (étapes, systèmes d'exposition et d'alignement, optique pour la lithographie, techniques d'amélioration de la résolution, lithographie en immersion, lithographie extreme-UV…)
- Introduction aux nouvelles techniques de lithographie (e-beam, nano-imprint)
Prérequis
quelques notions de technologie microélectronique
Contrôle des connaissances
Session 1 présentiel : examen écrit d’une heure, sans documents, sans calculettes
Session 1 à distance : test en ligne de 30 minutes
Session 2 présentiel : examen écrit d’une heure, sans documents, sans calculettes
Session 2 à distance : DM + 30 minutes vision zoom
100% écrit
Informations complémentaires
Cursus ingénieur->Double-Diplômes Ingénieur/Master->Semestre 9
Cursus ingénieur->Masters->Semestre 9