5PMNPHO1 : Lithographie - WPMNDPH9
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Volumes horaires
- CM : 5.0
- TD : 5.0
- TP : 0
- Projet : 0
- Stage : 0
Crédits ECTS : 1.0
Objectifs
L'objectif de ce cours est de donner un aperçu des techniques de lithographie avancées, tels qu'elles sont utilisées dans l'industrie aujourd'hui, tels qu'elles le seront peut être demain.
Contact Irina IONICA
Contenu - Introduction à la lithographie (définitions, objectifs, classifications, enjeux)
- Lithographie optique (étapes, systèmes d'exposition et d'alignement, optique pour la lithographie, techniques d'amélioration de la résolution, lithographie en immersion, lithographie extreme-UV…)
- Introduction aux nouvelles techniques de lithographie (e-beam, nano-imprint)
Prérequisquelques notions de technologie microélectronique
Contrôles des connaissances Session 1 présentiel : examen écrit d’une heure, sans documents, sans calculettes
Session 1 à distance : test en ligne de 30 minutes
Session 2 présentiel : examen écrit d’une heure, sans documents, sans calculettes
Session 2 à distance : DM + 30 minutes vision zoom
Informations complémentaires Cursus ingénieur->Double-Diplômes Ingénieur/Master->Semestre 9
Cursus ingénieur->Masters->Semestre 9
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mise à jour le 18 mars 2019
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