Volumes horaires
- CM 5.0
- Projet 0
- TD 5.0
- Stage 0
- TP 0
Crédits ECTS
Crédits ECTS 1.0
Objectif(s)
L'objectif de ce cours est de donner un aperçu des techniques de lithographie avancées, en particulier la photolithographie (qui est la base de la fabrication des circuits intégrés en microélectronique). Une réflexion sur les enjeux de développement durable autour des techniques de photolithographie est également intégrée dans le cours.
Contact Lionel BASTARD, Irina IONICA, Benoit BOULANGERContenu(s)
- Introduction à la lithographie & enjeux de la miniaturisation
- Lithographie optique (étapes, systèmes d'exposition et d'alignement, optique pour la lithographie, techniques d'amélioration de la résolution, lithographie en immersion, lithographie extreme-UV…)
- Problématique du développement durable autour de la photolithographie
- Introduction aux nouvelles techniques de lithographie (e-beam, nano-imprint)
Prérequis
Prérequis : quelques notions de technologie microélectronique & photolithographie
Contrôle des connaissances
Semestre 9 - L'examen existe uniquement en anglais 
En présentiel SESSION1 :
Type d'évaluation : 90%DS + 10%CC
Devoir Surveillé (sur Chamilo, dans une salle informatique)
Durée : 30min
Modalités : Tous documents interdits.
Calculatrice : autorisée
Session 2 condition normale : examen écrit de 30 minutes, sans documents
CC n'est pas rattrapable
Session 1 condition confinement : mêmes qu’en présentiel, avec DS en ligne et surveillance par zoom
Session 2 condition confinement : mêmes qu’en présentiel, avec DS en ligne et surveillance par zoom
session 1 condition normale : 100% DS
session 2 condition normale : 100% DS rattrapage
session 1 condition confinement : mêmes qu’en présentiel
session 2 condition confinement : mêmes qu’en présentiel
Informations complémentaires
Semestre 9 - Le cours est donné uniquement en anglais
Cursus ingénieur->Double-Diplômes Ingénieur/Master->Semestre 9
Cursus ingénieur->Masters->Semestre 9