Volumes horaires
- CM 5.0
- Projet 0
- TD 5.0
- Stage 0
- TP 0
Crédits ECTS
Crédits ECTS 1.0
Objectif(s)
L'objectif de ce cours est de donner un aperçu des techniques de lithographie avancées, tels qu'elles sont utilisées dans l'industrie aujourd'hui, tels qu'elles le seront peut être demain.
Contact Irina IONICAContenu(s)
- Introduction à la lithographie (définitions, objectifs, classifications, enjeux)
- Lithographie optique (étapes, systèmes d'exposition et d'alignement, optique pour la lithographie, techniques d'amélioration de la résolution, lithographie en immersion, lithographie extreme-UV…)
- Introduction aux nouvelles techniques de lithographie (e-beam, nano-imprint)
Prérequis
quelques notions de technologie microélectronique
Contrôle des connaissances
Mise à jour 28.05.2024
En présentiel SESSION1 :
Type d'évaluation : Devoir Surveillé (sur Chamilo, dans une salle informatique)
Durée : 30min
Modalités : Tous documents interdits.
Calculatrice : autorisée
Session 2 condition normale : même qu’en session 1
Session 1 condition confinement : mêmes qu’en présentiel, avec DS en ligne et surveillance par zoom
Session 2 condition confinement : mêmes qu’en présentiel, avec DS en ligne et surveillance par zoom
session 1 condition normale : 100% DS
session 2 condition normale : 100% DS rattrapage
session 1 condition confinement : mêmes qu’en présentiel
session 2 condition confinement : mêmes qu’en présentiel
Informations complémentaires
Cursus ingénieur->Filière IPhy->Semestre 9
Cursus ingénieur->Double-Diplômes Ingénieur/Master->Semestre 9